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1200℃滑動雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
產(chǎn)品用途：產(chǎn)品專業(yè)性：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
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- 商品名稱: 1200℃滑動雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
- 商品編號: 1034429608717279232
產(chǎn)品用途：產(chǎn)品專業(yè)性：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
銷售熱線：15122725930
產(chǎn)品用途：
產(chǎn)品專業(yè)性：
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品組成：
PECVD系統(tǒng)配置：
1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
產(chǎn)品特點：
生長溫度低；沉積速率快；成膜質(zhì)量好，適用范圍廣，設備簡單。
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